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磁控溅射台(SKE102011)

来源:2020年马会开奖结果
2017-05-04 15:06:45

仪器型号:SKE102011

生产商:台湾矽基科技有限公司

应用范围:

    本设备为双腔室溅射台,反应室设置有4个靶位,靶材尺寸为直径76.2mm*60mm厚的圆靶材,样品尺寸≦4inch,样品托盘可旋转,镀膜均匀,双腔之间用机械手进行传递,通过电脑界面自动控制,操作简便。电源配有DC/RF两种,设备配有高抽速分子泵,本底真空度高。可用于溅射各种单层或者多层金属及氧化物膜层,并带有偏压溅射、共溅射、等离子清洗等功能,衬底加热最高400度。(备注:本实验室配有数十种金属及氧化物靶材供选择)。

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